產品中心
KASHIYAMA日本樫山工業原裝現貨真空泵SDE120TX 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村庫存SDE20N12TX 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村庫存SDE30N20 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL12E50 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL20E50 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL36E60 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。